真空炉的真空度对资料的制备质量有着非常重要的影响。关于一些需求高纯度的资料，较高的真空度能够有效地削减其外表吸附气体的杂质，然后确保资料的高纯度。而较差的真空度则可能会使外表杂质吸附在资料上，影响资料的性质，如磁性、电导率等。
    此外，关于需求高度纯洁的晶体生长进程，如半导体资料的制备，真空度的严格要求也常常是限制其产值和质量的关键因素。
    真空度是影响真空炉资料制备质量的重要因素，在选择真空炉和筛选抽气泵时，应该根据具体情况选择恰当的真空度要求，以确保制备出的资料质量和产值的稳定提高。