真空炉中的温度散布
　  石墨棒加热元件安置在加热室两边的安置法,特别适于高真空炉。在高真空气氛中,由两边加热元件发生的热辐射区可以对工件进行均匀地加热。当炉温在400—1300℃时,加热区各点温差可达±5 K。 60年代曾经,温度控制一直是热处理技能中的主要问题之一。后来因为采用了电子温控技能,这个问题已经处理。目前,从温度散布的角度来看,热区温度散布的精度是重要问题。咱们几乎总是要优先考虑力求在结构上能确保获得温度均匀的热区,至于因为某种原因使热区出现暂时性的温度不均匀现象也会随保温时间的延长而消失。反之,温度较高或较低的热区会使它的有害影响贯穿于热处理的始终。下面咱们介绍在这方面卓有成效,温度梯度低于0.01K/cm的真空炉结构。 真空炉除了具有温度均匀性外,还有其它一些优点。耗能少,完全避免运用有毒资料,加热、资料放气发生烟尘对环境的污染、完满地处理了资料表面氧化或畸变问题。因为有这些优点已使真空炉成为现时热处理工艺中不行少的条件。 真空中的传热 从传热来看,真空起到双重作用。